극자외선 리소그래피(EUVL) 글로벌 전략 사업 보고서: 기존 리소그래피의 한계 극복, EUV 시장 341억 달러 전망
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최신 보고서는 2025년 극자외선 리소그래피(EUVL) 시장 규모를 154억 달러로 추정하며, AI, 데이터 센터 및 정부의 반도체 투자 수요에 힘입어 2032년까지 광원 시장 규모는 157억 달러에 달할 것으로 전망한다. 이 보고서에는 ASML, TSMC, 삼성, 인텔 등 주요 기업들이 포함된다.
더블린, 2026년 10월 20일 (GLOBE NEWSWIRE) -- ResearchAndMarkets.com의 제품군에 '극자외선 리소그래피(EUVL) - 글로벌 전략적 비즈니스 보고서'가 추가되었다.
EUV 리소그래피는 특히 7나노미터, 5나노미터, 3나노미터 공정 노드에서 최첨단 반도체 제조의 핵심이 되었다. 13.5나노미터 파장은 매우 정밀한 패턴 형성, 더 높은 트랜지스터 밀도 및 점점 더 복잡한 칩 아키텍처를 지원한다. 이러한 기능은 기존 리소그래피 기술이 첨단 노드에서 기술적 및 경제적 제약을 겪으면서 점점 더 중요해지고 있다.
이 기술은 데이터 센터, 모바일 기기, 클라우드 인프라 및 지능형 엣지 시스템 전반에 걸쳐 프로세서 성능, 에너지 효율성 및 열 관리의 지속적인 개선을 가능하게 한다. 반도체 제조사들은 선택된 패턴화 공정을 단순화하고 복잡한 다중 패턴화 방식에 대한 의존도를 줄이며 차세대 로직 및 메모리 제품 개발을 지원하기 위해 EUVL을 점점 더 많이 채택하고 있다.
인공지능(AI) 및 고성능 컴퓨팅 분야의 수요는 주요 시장 촉진제다. AI 학습, 머신러닝, 고급 그래픽 처리 및 대규모 데이터 처리는 높은 트랜지스터 밀도와 최적화된 전력 소비를 갖춘 프로세서를 필요로 한다. EUVL은 이러한 계산 집약적 워크로드를 위해 설계된 CPU, GPU, 가속기 및 메모리 기술의 제조를 지원한다.
주요 산업 전반의 확장되는 응용 분야
소비자 전자기기는 여전히 중요한 응용 분야로, 스마트폰, 노트북, 게임 시스템, 웨어러블 기기 및 연결된 장치에 고급 반도체가 필요하다. 제조사들은 점점 더 컴팩트한 설계 내에서 더 높은 성능을 추구하며, EUV 리소그래피로 생산된 첨단 노드 프로세서 및 메모리 칩에 대한 수요를 강화하고 있다.
5G 네트워크의 확장도 더 빠른 데이터 전송, 더 큰 대역폭 및 저지연 통신을 지원할 수 있는 정교한 반도체에 대한 필요성을 증가시키고 있다. EUVL은 통신 인프라, 모바일 기기 및 네트워크 장비에 사용되는 칩의 생산에 기여한다.
전기차, 고급 운전자 지원 시스템(ADAS) 및 자율 주행 플랫폼이 더 많은 센서, 연결 기능 및 AI 처리 능력을 통합함에 따라 자동차 반도체 수요가 증가하고 있다. 배터리 관리, 차량 내 컴퓨팅, 전력 시스템 및 자동 주행에 사용되는 칩은 높은 성능, 신뢰성 및 에너지 효율성을 제공해야 한다. 이러한 요구사항은 첨단 리소그래피 기술에 대한 추가적인 기회를 창출하고 있다.
📄 원문 (English)
Latest Report values extreme ultraviolet lithography at $15.4bn in 2025, with light sources reaching $15.7bn by 2032 as AI, data centres and government chip investment drive demand — with ASML, TSMC, Samsung and Intel among the companies profiled
Dublin, Oct. 20, 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- "Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) - Global Strategic Business Report" has been added to ResearchAndMarkets.com's offering.
EUV lithography has become central to leading-edge semiconductor fabrication, particularly at 7-nanometer, 5-nanometer and 3-nanometer process nodes. Its 13.5-nanometer wavelength supports highly precise patterning, greater transistor density and increasingly complex chip architectures. These capabilities are critical as conventional lithography techniques encounter technical and economic constraints at advanced nodes.
The technology is enabling continued improvements in processor performance, energy efficiency and thermal management across data centers, mobile devices, cloud infrastructure and intelligent edge systems. Semiconductor manufacturers are increasingly adopting EUVL to simplify selected patterning processes, reduce reliance on complex multi-patterning schemes and support the development of next-generation logic and memory products.
Demand from artificial intelligence and high-performance computing is a major market catalyst. AI training, machine learning, advanced graphics and large-scale data processing require processors with high transistor densities and optimized power consumption. EUVL supports the fabrication of CPUs, GPUs, accelerators and memory technologies designed for these computationally intensive workloads.
Expanding Applications Across Key Industries
Consumer electronics remains an important application area, with advanced semiconductors required for smartphones, laptops, gaming systems, wearables and connected devices. Manufacturers are pursuing higher performance within increasingly compact designs, strengthening demand for advanced-node processors and memory chips produced with EUV lithography.
The expansion of 5G networks is also increasing the need for sophisticated semiconductors capable of supporting faster data transmission, greater bandwidth and low-latency communication. EUVL contributes to the production of chips used in telecommunications infrastructure, mobile devices and network equipment.
Automotive semiconductor demand is rising as electric vehicles, advanced driver assistance systems and autonomous driving platforms incorporate more sensors, connectivity functions and AI processing capabilities. Chips used in battery management, in-vehicle computing, power systems and automated driving must deliver high performance, reliability and energy efficiency. These requirements are creating additional opportunities for advanced lithography technologies.
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